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pvd基本方法:真空蒸发、溅射、离子镀空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀,以下介绍几种常用的方法。电子束蒸发电子束蒸发是利用-成束的电子束来加热蒸发源,使其蒸发并沉积在基片表面而形成薄膜。特征:真空环境;蒸发源材料需加热熔化;基底材料也在较高温度中;用磁场控制蒸发的气体,从而控制生成镀膜的厚度。溅射沉积溅射是与气体辉光放电相联系的一种薄膜沉积技术。溅射的方法很多,有直流溅射、rf溅射和反应溅射等



在pvd技术下,用于制备薄膜材料的物质,统称为pvd镀膜材料。经过多年发展,pvd技术已成为目前主流镀膜方法,主要包括溅射镀膜和真空蒸发镀膜。cvd技术cvd技术是在高温下依靠化学反应、把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室,在衬底表面发生化学反应生成薄膜材料的技术。pvd镀膜材料产业链上下游关系2.pvd镀膜材料下游太阳能应用行业概况太阳能光伏行业中,pvd镀膜材料主要应用于太阳能电池。按太阳能电池的结构划分,可分为结晶硅和薄膜太阳能电池二大族群。



熔融池中金属液体含有大约8%~11%硅si,其余成分为铝。

铝硅镀层会在钢板表面形成明显的铝-铁-硅合金层,其特点是优异的耐高温性能,可以应用在一些高温加工和高温工作环境中。

镀层厚度和重量的关系:镀层厚度1μm≈3g/m2。

注3:热镀铝硅镀层钢板及钢带,是贸易中提及的“镀铝板”的一个种类。在欧标中镀纯铝是需要单独协议供货的,而在jis标准中则根据耐腐蚀和耐高温等不同的应用做了分类。



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