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通过溅射工艺涂覆薄膜有几个特点:金属,合金或绝缘体可以制成薄膜材料。相同组成的薄膜可以在适当的设置条件下由多个复杂的靶材制成。通过在放电气氛中添加氧气或其他活性气体,可以生产目标材料和气体分子的混合物或化合物。可以控制目标输入电流和溅射时间,并且容易获得-的膜厚。与其他工艺相比,有利于生产大面积的均匀薄膜。溅射的粒子不受重力影响,并且靶和基板的位置可以自由地布置。基材与薄膜之间的粘合强度是普通气相沉积薄膜的10倍以上,并且由于溅射的粒子具有高能量,因此表面将继续在成膜表面上扩散以获得坚硬而致密的表面电影。 次数用完api key 超过次数-



有70多种元素、50多种无机化合物材料和多种合金材料可供选择。溅射镀sputteringdepsitsnn用荷能粒子(通常为气体止离子)轰击靶材,使靶材表-分原子逸出的现象r.若把零件放在靶材附近酌适当位置上,则从靶材飞出的原子便会沉积到零件表面而形成镀层。它特另}l适用于高熔点金属、合金、半导体和各类化合物的镀覆二主要用于制备电子元件上所需的各种镀层。也可用来镀覆氮化钦仿金镀层和在切削刀具上镀覆氮化钦、碳化钦等硬质镀层,以提高其使用寿命和切削功能。 次数用完api key 超过次数-



离子镀在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离,并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下,将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法。其中包括磁控溅射离子镀、反应离子镀、空心阴极放电离子镀空心阴极蒸镀法、多弧离子镀阴极电弧离子镀等。真空镀的基本流程如下方框图:真空镀由于是气象沉积,一般能喷涂的塑胶材料都能实现真空镀,如abs,p,pmma,pet,ps等。真空镀表面颜色不受-,通过镀不同的金属体现不同的颜色,还以做五颜六色的彩镀,举例如下银色,可镀铬,铝,镍等来实现金色,可镀金,钛的氮化物与金合金,黑色与枪色,镀钛与碳的化合物局部电镀方便,真空镀可以利用夹具来遮挡不需要电镀的区域。 次数用完api key 超过次数-



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